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控制蚀刻偏差的系统及方法

本发明提供一种控制蚀刻偏差的系统，其包括一个制造工程系统，用于精确控制整个图案化制程尺寸；其中，该系统还包括一个光罩数据系统，其与制造工程系统相连接，光罩数据系统用于获取光罩透光率，并将获取的透光率数据传输给制造工程系统；制造工程系统会自动辨识该光罩透光率的范围，并计算出佳的光刻制程尺寸大小。 ...

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一种铝合金蚀刻液及其蚀刻方法

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本发明要解决的技术问题是现有的铝合金蚀刻液在进行蚀刻时产生大量不易除去的黑灰、表面粗糙、边缘存在毛刺、侧蚀严重的缺点，从而提供一种黑灰易于去除、表面光亮、没有毛刺、侧蚀小的铝合金蚀刻液及其蚀刻方法。本发明提供一种铝合金蚀刻液，该铝合金蚀刻液包括三氯化铁、磷酸、pH调节剂、缓蚀剂和消泡剂。 ...

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一种晶片边缘的蚀刻机及其蚀刻方法

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在动态随机存取存储单元(dynamic random access memory，DRAM)的制造过程中，为了提高产率，便采用晶片全面曝光的方法，使单一晶片上可以获得更多的芯片(chip)。如此一来，虽然产率得以提高，但同时也制造一些工艺处理问题。特别在对硅晶片蚀刻深凹槽(deeptrench)工艺方面。 ...

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